Мишустин объявил о завершении испытаний литографической установки 350 нм в России

6 июля 2026 г. премьер‑министр России Михаил Мишустин объявил о завершении испытаний первой в стране установки проекционной литографии с разрешением 350 нм. Об этом он сообщил на пленарном заседании международной промышленной выставки «Иннопром» в Екатеринбурге.

Мишустин подчеркнул, что Россия движется по пути полной локализации всех звеньев цепочки выпуска микросхем. По его словам, до недавних испытаний только три государства в мире обладали технологией проекционной литографии 350 нм, и теперь Россия присоединилась к этому списку совместно с белорусскими партнёрами.

Инициатива локализации объясняется длительным воздействием западных санкций, ограничивших импорт полупроводникового оборудования. Создание отечественной литографической установки позволяет сократить зависимость от зарубежных поставок и снизить валютные расходы компаний‑потребителей микросхем.

Для производителей электроники и поставщиков компонентов это событие открывает новые возможности закупки отечественного оборудования и сырья. Точные цены на литографические машины и сопутствующие материалы доступны в AI‑Аналитика RawMart по отраслям. Кроме того, проверку контрагентов и расчёт логистических расходов можно выполнить в Проверка контрагентов и логистический калькулятор RawMart, что ускорит формирование цепочек поставок.

Комментарий редакции RawMart: завершение испытаний установки 350 нм уже сейчас создаёт основу для первых серийных запусков отечественного производства чипов. Компаниям, планирующим расширять портфель микросхем, рекомендуется начать переговоры с российскими поставщиками оборудования и фиксировать цены через платформу RawMart, чтобы минимизировать риски валютных колебаний и санкционных ограничений.

Оцените материал

Поделиться